フォトマスク用防塵フィルム「ペリクル」

フォトマスク用防塵フィルム「ペリクル」

用途概要

半導体製造プロセスにおける露光工程で生じる歩留り低下を防止する部材が「ペリクル」です。「ペリクル」は半導体製造における露光プロセスで必須の部材であり、露光波長ArF(193nm)、KrF(248nm)が照射される環境下で使用されます。サイトップ®は深紫外領域の光も透過する稀有な特性を有するため、「ペリクル」の材料として使用されています。