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“pellicle ”是防止半导体制造流程的曝光工序中出现成品率降低的构件。“pellicle ”是半导体制造中曝光工序所必需的构件，需要在曝光波长 ＡｒＦ（193nm）、ＫｒＦ（248nm）的照射环境下使用。CYTOP®具有穿透深紫外光的稀有特性，被用作“pellicle”的材料。
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